Минпромторг России намерен профинансировать ряд опытно-конструкторских работ (ОКР) по разработке технологий и промышленных установок для производства микрочипов, пишет CNews. Речь идёт о решениях для производства чипов по нормам от 250 до 65 нм. Сейчас идёт поиск исполнителей для пяти ОКР в сфере выпуска полупроводников. В общей сложности на проведение работ может быть выделено до 9,2 млрд руб.
В частности, один из проектов носит название «Разработка и освоение в производстве установки лазерного устранения дефектов и постановка технологического процесса устранения недопустимых дефектов на фотошаблонах в обеспечение производства интегральных схем с топологическими нормами 90-65 нм»: начальная цена контракта составляет 1,16 млрд руб. Ещё одна ОКР со стоимостью 1,41 млрд руб. получила название «Разработка и освоение в производстве установки контроля координат топологических элементов и критических размеров структур на фотошаблонах в обеспечение производства интегральных схем с топологическими нормами 90-65 нм».
Кроме того, планируется реализация проекта «Разработка и изготовление опытных образцов установок электрохимического осаждения для обеспечения серийного производства микроэлектроники на пластинах 100 мм/4 дюйма и 200 мм/90 нм» с начальной стоимостью 800 млн руб.
Ещё две ОКР носят названия «Разработка технологии и комплексного инструмента проектирования широкой номенклатуры СВЧ-компонентов, изготавливаемых на основе гетероэпитаксиальных структур нитрида галлия на подложках карбида кремния с проектными нормами 0,25 мкм (250 нм)» и «Разработка технологии и комплексного инструмента проектирования широкой номенклатуры СВЧ- и силовых компонентов, изготавливаемых на основе гетероэпитаксиальных структур нитрида галлия на подложках кремния с проектными нормами до 0,25 мкм». Начальная цена этих контрактов — 2,71 млрд руб. и 3,13 млрд руб. соответственно.
Предполагается, что работы по проектам будут выполнены в 2025–2026 гг. Результатом должны стать в том числе опытные установки и типовые технологические процессы для выпуска чипов. Это поможет в осуществлении импортозамещения в IT-секторе. Конечно, даже 65-нм техпроцесс сейчас не назовёшь передовым — Samsung и TSMC уже производят продукцию по 3-нм техпроцессу — однако подобные чипы всё ещё очень востребованы в разных сферах.
Сроки и ожидаемые результаты
Из тендерных документов следует, что первые три из перечисленных ОКР должны быть выполнены до 30 ноября 2026 г. Последние две — до 30 ноября 2025 г.
В ходе первого из перечисленных проектов будущему подрядчику предстоит провести расчеты для ультрафиолетовых объективов и параметров оптической системы лазера для устранения в изделиях оптических дефектов, а также разработать эскизный проект установки, конструкторскую, технологическую и эксплуатационную документацию, после чего изготовить два опытных образца установки.
Ожидаемые результаты второй ОКР — аналогичны. Проект также подразумевает создание двух опытных образцов соответствующей установки.
Два образца изделий также должен изготовить и исполнитель третьей ОКР. В отношении них госзаказчик отмечает, что прямые отечественные аналоги на рынке сейчас отсутствуют. «Функциональными аналогами являются установки SolsticeS8, SolticeS4, SolticeLT компании ClassOne; StratusP300 компании Asmptnexx; NokotaECD, RaiderECD компании AppliedMaterials; серия Sabre компании LamResearch», — говорится в ТЗ.
В двух последних проектах от подрядчика потребуется разработать типовые технологические процессы по заявленным тематикам.
Кто сможет использовать результаты
В ТЗ двух последних тендеров прямо говорится, что по итогам проектов к разработанным технологиям будет обеспечен доступ сторонних организаций, которые смогут на их основе осуществлять выпуск своих изделий «в режиме контрактного производства». В ТЗ первых трех ОКР подобных указаний нет.
Как видно по названиям, все ОКР касаются техпроцессов выпуска микросхем с топологией в диапазоне 250-65 нм. Поэтому стоит отметить, что микроэлектронный лидер России, зеленоградский «Микрон», массово выпускает чипы на 180–90 нм. На предприятии также освоен выпуск по топологии 65 нм, но лишь для штучных партий — инженерных образцов.
Освоенный «нанометраж» фабрики другого флагмана выпуска российской микроэлектроники, зеленоградского «Ангстрема», не вполне понятен, но он в любом случае уступает технологиям «Микрона».
Также в перспективе на проектные нормы в 250-180 нм должен выйти новосибирский «Восток». Правда, как писал CNews в начале июня 2023 г., запуск новой линии выпуска чипов у него буксует.
При этом стоит отметить, что по современным меркам весь упоминавшийся выше топологический диапазон в 250-65 нм — это «прошлый век». Однако произведенная по таким нормам продукция все равно остается очень востребованной.
В то же время в России еще в январе 2020 г. была утверждена стратегия развития электронной промышленности на период до 2030 г., которая подразумевала строительство фабрик, способных выпускать чипы с топологией 28 нм и ниже (вплоть до 5 нм). Однако точные сроки появления таких фабрик в стратегии прописаны не были.
По данным CNews, проект создания фабрики на 28 нм в России действительно был запущен, однако все опрошенные редакцией участники рынка комментировать его отказываются. Представители Минпромторга в разговоре с CNews осенью 2020 г. называли его закрытым (секретным).
305
